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CVD系統(tǒng)管式爐是一種重要的材料制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之中。它主要用于在固態(tài)基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統(tǒng)。

管式爐搭配質子（浮子）供氣系統(tǒng)真空系統(tǒng)和分子泵機組，形成高真空CVD系統(tǒng)。CVD系統(tǒng)管式爐是一種重要的材料制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之中。它主要用于在固態(tài)基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統(tǒng)。